Kouman yo itilize aparèy chofaj PTFE nan prechofaj asid silfirik pou netwayaj wafer semi-kondiktè (SPM)?

SPM clean- se yon melanj ki trè oksidan nan asid silfirik konsantre ak oksijene idwojèn- yo itilize pou ekstrè résidus òganik ki soti nan wafers Silisyòm anvan pwosesis esansyèl nan fabrikasyon semi-conducteurs. Solisyon an chofe a apeprè 120-150 degre, yon seri tanperati ki byen vit elimine PTFE konvansyonèl kòm yon materyèl djenn apwopriye. Pou pwosedi sa a, aparèy chofaj imèsyon an dwe fèt ak yon fluoropolymer ki gen plis rezistans tanperati, PFA.

Sistèm chofaj anndan ban mouye semi-conducteurs dwe reziste youn nan kondisyon chimik ki pi grav nan pwosesis endistriyèl yo, pandan y ap, an menm tan, kenbe pite ultra-segondè. Konsepsyon an se konsa reyalize se jeneralman nan pi gwo klas PTFE aparèy chofaj asid silfirik aplikasyon semi-conducteur SPM, men materyèl djenn chwa a se espesyalman wo -pite PFA olye ke estanda PTFE.

Konpreyansyon pwosedi netwayaj SPM
SPM (Sulfuric-Peroksid Melanj) se souvan itilize nan endistri a semi-conducteurs pou retire rezidi photoresist, kontaminan òganik ak konpoze kabòn tras nan sifas la wafer.

Solisyon an anjeneral fèt kòm yon rapò 3:1 a 4:1 nan asid silfirik ak oksijene idwojèn pa volim. Ajoute oksijene idwojèn nan asid silfirik konsantre pwodui yon solisyon oksidan trè reyaktif. Melanje jenere chalè konsiderab, ègzotèmik nan lanati, ak tanperati a nan beny lan ka monte rapidman menm anvan adisyon a nan chalè ekstèn.

Pwen bouyi nan solisyon an ogmante ak ogmantasyon nan konsantrasyon nan asid silfirik. Tanperati fonksyònman yo anjeneral nan ranje 120 degre a 150 degre, tou depann de chimi pwosesis ak nivo kontaminasyon.

Nan tanperati sa yo kondisyon konsepsyon aparèy chofaj gen ladan rezistans chimik ak estabilite tèmik.

Poukisa SPM pa apwopriye pou PTFE estanda
Chofaj imèsyon PTFE te istorikman byen siksè nan anpil aplikasyon asid ak korozivite. Sepandan, egzijans chalè nan SPM netwaye basen souvan pa fè eksperyans pa materyèl ki disponib PTFE òdinè.

PFA (perfluoroalkoxy Alkane) gen plizyè avantaj pou aplikasyon sa a:

Sèvis kontinyèl nan tanperati jiska 260 degre

Bon rezistans nan asid silfirik ak oksidasyon oksijene

Konstriksyon pite segondè konpatib ak pwosesis semi-conducteurs

Ba kontaminasyon iyonik ak ekstrè ki ba

Jeyometri aparèy chofaj imèsyon koutim yo adaptab

Anpil enjenyè pwosesis dekontrakte fè referans ak sistèm sa yo kòm aparèy chofaj PTFE, sepandan djenn lan espesyalman pwodui nan semi-conducteurs -klas PFA.

Fonksyon PFA Immersion Chofaj la
Nan beny SPM aparèy chofaj la se yon dwèt cho chimikman inaktif nan yon likid fòtman oksidan ki ta detwi sistèm chofaj tradisyonèl metalik nan yon flash.

Manch PFA a pwoteje aparèy chofaj entèn la kont kontak dirèk ak konbinezon silfirik-oksijene epi li anpeche kontaminasyon metalik antre nan chimi pwosesis la. Jesyon kontaminasyon sa a se kritik paske menm tras iyon metal ka entèfere ak pèfòmans wafer ak sede aparèy.

Anjeneral, sèlman de teknoloji aparèy chofaj yo jije apwopriye pou anviwònman SPM:

Segondè pite aparèy chofaj Immersion ak kouch PFA

Eleman chofaj kwatz djenn

Chofaj PFA yo popilè nan mitan chwa sa yo pou rezistans chimik yo, andirans tèmik ak fleksibilite fabrikasyon.

Watt dansite dwe konsèvatif
Solisyon SPM yo kouri nan trè pre ranje efikas bouyi yo. Kòm yon rezilta dansite watt aparèy chofaj dwe rete fè espre konsèvatif.

Tanperati sifas twòp ka pwovoke surchof lokal nan koòdone nan djenn. Avèk melanj oksijene silfirik ki konsantre-, bonpman ka vyolan akòz surchof lokalize, degaje vapè brid sou kou oswa konpòtman bouyi enstab.

Kidonk, aparèy chofaj imèsyon pou klas semi-conducteurs yo devlope ak:

Ba sifas Watt dansite

Menm distribisyon chalè

Jeyometri imèsyon kontwole

Kontwòl tanperati egzat

Kouvèti likid konstan

Pwoblèm lan se pa transpò chalè rapid, men antretyen tèmik fiks, serye.

Konsiderasyon konsepsyon aparèy chofaj ban mouye pou Semiconductor
Chofaj imèsyon SPM yo souvan fèt pou jeyometri tank espesifik ak pwofondè imèsyon. Si djenn lan sou liy likid la, konsantrasyon estrès tèmik ka mennen nan lavi aparèy chofaj pi kout oswa domaj nan sifas fluoropolymer la.

Nan aplikasyon semi-conducteurs gen plizyè pwoblèm konsepsyon ki gen enpòtans espesyal.

Pwofondè kontwòl imèsyon
Aparèy chofaj la dwe konplètman plonje lè nan operasyon. Ekspozisyon pasyèl ka lakòz gwo tanperati djenn epi fasilite fatig materyèl.

Konstriksyon pite segondè
Nivo kontaminasyon nan pwodiksyon semi-conducteurs yo dwe ba anpil. Konsekans, asanble aparèy chofaj yo te fè soti nan fluoropolymers pite segondè, lè l sèvi avèk teknik fabrikasyon konpatib chanm pwòp, epi ak ekspoze minimòm metalik.

Kontwòl ekspansyon tèmik
Repete monte bisiklèt ant tanperati anbyen ak tanperati operasyonèl ka lakòz estrès mekanik nan djenn fluoropolymer la. Apwopriye espas sipò ak aranjman versatile monte limite akimilasyon fatig.

Enspeksyon peryodik
Enspeksyon regilye oblije tach endikatè bonè nan fann estrès, dekolorasyon oswa deformation sifas yo. Nan enstalasyon pwodiksyon wafer modèn, li nòmal pou pran randevou ranplasman prevantif pou evite entèripsyon pwosesis inprevi.

Konsèy Sekirite
SPM Extreme Hazard Chimi
Solisyon SPM yo pami melanj chimik ki pi danjere yo itilize nan pwodiksyon semi-conducteurs.

Melanj nan asid silfirik ak oksijene idwojèn trè ègzotèmik, agresif oksidasyon epi li ka lakòz boule chimik grav ak reyaksyon rapid. Nenpòt kontaminasyon dlo envolontè ka lakòz fòmasyon vapè rapid ak eksplozif eksplozif asid cho.

Men poukisa:

Tank yo dwe sèk anvan yo chaje chimi

Metòd adisyon chimik yo dwe gen pwotokòl sekans sere

Nivo imèsyon aparèy chofaj la dwe kenbe konstan

Règleman tanperati ak sistèm pwoteksyon tanperati twòp yo bezwen

Solisyon ta dwe sèlman antre an kontak ak materyèl ki apwopriye tankou PFA pite segondè oswa kwatz.

Operasyon operasyon yo souvan reglemante pa kondisyon sekirite pou enstalasyon semi-conducteurs ak sistèm otomatik transmisyon chimik.

Poukisa PFA te vin estanda endistri
Biznis semi-conducteurs la mande tou de agresif chimik ak pite atomik. Netwayaj SPM efikas nan retire kontaminasyon òganik obstiné ki ta ka entèfere ak fotolitografi, depo ak pwosesis grave sou echèl nanokal.

PFA-chofaj imèsyon gaine yo anmenmtan konfòme yo ak anpil egzijans pwosesis enpòtan:

Rezistan nan asid silfirik konsantre

Estabilite nan oksijene rich kondisyon oksidasyon

Kapasite tanperati ki wo

Jenerasyon patikil minimòm

Ti risk pou kontaminasyon metalik

Konbinezon sa a fè aparèy chofaj imèsyon PFA yon teknoloji fondamantal nan ekipman semi-conducteurs modèn pwosesis mouye.

Rezime ak konklizyon
Aplikasyon asid silfirik SPM semiconductor pou aparèy chofaj PTFE se youn nan anviwònman ki pi difisil yo jwenn nan teknoloji chofaj chimik. Nan pratik, djenn aparèy chofaj la fèt ak PFA pite ki wo -, yon fluoropolymer ki ka kenbe tèt ak anviwònman oksidasyon difisil ak tanperati ki wo nan basen netwayaj oksijene silfirik-.

Chofaj sa yo travay san danje andedan sistèm SPM yo itilize pou netwaye wafer avanse akòz dansite watt ak anpil atansyon kontwole, kondisyon imèsyon ki estab ak jesyon kontaminasyon sevè. Anplis de sa, egzamen peryodik pou fann estrès ak fatig tèmik plis ajoute nan fyab pwosesis alontèm -.

Aparèy chofaj imèsyon PFA-gannen te parèt kòm estanda endistri a pou bay chimik netwayaj entans ki nesesè anvan fòmasyon nan estrikti aparèy nanoskopik nan fabrikasyon semi-conducteurs. Teknoloji chofaj pite ki pi wo a pwodui finalman Silisyòm pite ki pi wo a nan plizyè zòn.