Fòmil debaz nan solisyon electroplating pou tib chofaj elektrik

Fòmil debaz nan solisyon electroplating pou tib chofaj elektrik

Pousantaj depo a pa sèlman reflete pwosesis dinamik depo chimik, men tou dirèkteman afekte pèfòmans ak bon jan kalite kouch la [31]. Akòz konpleksite chanjman nan konpozisyon an ak paramèt pwosesis plating nan solisyon an depo chimik ki baze sou C alyaj plating, pousantaj depo li yo enfliyanse pa plizyè faktè. Se poutèt sa, li nesesè pou fè rechèch apwofondi sou pousantaj depo chimik.

Fòmil debaz nan solisyon plating

Fòmil debaz solisyon plating [s] la se: COC12.6H2011.7g/L; NiCl2 · 6H205.0g/L; NaBH, 0.6g/L; Na2C, H, O, · 2H2{{20}}65.0g/L; NH4CI12.0g/L; ethylenediamin 1.2g / L; estabilize 1.0g / L; 6600C; pH13 ^ 14; kapasite chaj 0.8dm2 / L; eleman latè ra yo ajoute nan fòm klori.

1.2 Metòd eksperimantal

Echantiyon an se yon fèy kwiv 20mm x 10mm x 0.03mm. Akòz enkapasite kòb kwiv mete espontaneman kòmanse plating, li nesesè prezante plating. Yon fwa alyaj la kòmanse depoze, li espontaneman kontinye. AS10200ADT dèlko ultrasons itilize (280W, 40/60kHz) gen de frekans: 40kHz ak 60kHz, ak pouvwa a ka ajiste ant 400o ak 90 pousan nan pouvwa a maksimòm; Tan an plating se 30 minit; Yo itilize balans elektwonik FA2004N pou kalkile pousantaj depo echantiyon an pa peze.

Sou baz depo chimik Co Ni B alyaj, eleman latè ra yo te ajoute pou prepare yon bòl ki gen kouch ak bon pwopriyete mou mayetik. Enfliyans eleman latè ra sou estrikti ak pwopriyete kouch yo te etidye. Rechèch sijere ke byenke potansyèl elektwòd nan eleman latè ra se relativman negatif, yo difisil dirèkteman presipite nan solisyon akeuz. Sepandan, anba endiksyon an nan ajan konplèks ki apwopriye ak eleman gwoup tranzisyon yo, potansyèl elektwòd nan metal latè ra yo ka pozitivman deplase, pandan y ap potansyèl elektwòd nan metal gwoup tranzisyon yo ka negatif deplase, kidonk ankouraje potansyèl elektwòd yo apwòch ak reyalize rediksyon ko. depozisyon metal gwoup tranzisyon ak metal latè ra.

www.superbheater.com